一种链式碱抛系统
授权
摘要
本实用新型公开了一种链式碱抛系统，用于抛光制绒后的硅片，包括：用于在制绒后的硅片的正面形成水膜的喷淋单元；用于去除制绒后的硅片的背面及四周的磷硅玻璃的第一酸洗单元；用于清洗第一酸洗单元酸洗后的硅片的第一水洗单元；用于对第一水洗单元水洗后的硅片的背面进行碱抛光的碱抛单元；用于清洗碱抛光后的硅片的第二水洗单元；用于去除第二水洗单元清洗后的硅片的正面的磷硅玻璃的第二酸洗单元；和用于清洗第二酸洗单元酸洗后的硅片的第三水洗单元；其中，所述喷淋单元、第一酸洗单元、第一水洗单元、碱抛单元、第二水洗单元、第二酸洗单元、第三水洗单元依次相连接。本实用新型采用链式碱抛，污染小，且不损伤正面P‑N结。
基本信息
专利标题 ：
一种链式碱抛系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202122167620.2
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-09-08
授权号 ：
CN216488101U
授权日 ：
2022-05-10
发明人 ：
谢新明杨苏平谢晓锋
申请人 ：
广东爱旭科技有限公司;浙江爱旭太阳能科技有限公司;天津爱旭太阳能科技有限公司;珠海富山爱旭太阳能科技有限公司
申请人地址 ：
广东省佛山市三水区乐平镇齐力大道南3号
代理机构 ：
广州三环专利商标代理有限公司
代理人 ：
李素兰
优先权 ：
CN202122167620.2
主分类号 ：
H01L31/18
IPC分类号 ：
H01L31/18 H01L21/67 H01L21/677
法律状态
2022-05-10 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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