一种平面口罩制造用纳米薄膜
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摘要

本实用新型公开了一种平面口罩制造用纳米薄膜,包括收卷结构,所述收卷结构上收卷有纳米薄膜结构,所述纳米薄膜结构包含纳米薄膜主体以及纳米薄膜封边,所述纳米薄膜封边有两个且对称设置在纳米薄膜主体的边缘处,所述收卷结构内安装有连接结构,所述连接结构上套设有复位弹簧。本实用新型所述的一种平面口罩制造用纳米薄膜,属于纳米薄膜领域,通过设置限位结构、连接结构以及复位弹簧,使其相互配合,可以对纳米薄膜结构进行限位,从而避免剩余的收卷在收卷筒上的纳米薄膜结构松散;通过在纳米薄膜主体的边缘处黏贴纳米薄膜封边,可以对纳米薄膜主体边缘处进行加固,从而降低纳米薄膜主体边缘处受到外力被撕裂的几率。

基本信息
专利标题 :
一种平面口罩制造用纳米薄膜
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202122230065.3
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2021-09-15
授权号 :
CN216426162U
授权日 :
2022-05-03
发明人 :
王刚
申请人 :
苏州联鑫新材料技术有限公司
申请人地址 :
江苏省苏州市吴江区江陵街道联杨路南侧、龙桥路西侧(联杨路139号)
代理机构 :
苏州汇智联科知识产权代理有限公司
代理人 :
王美红
优先权 :
CN202122230065.3
主分类号 :
B65H16/02
IPC分类号 :
B65H16/02  B65H75/28  B65H75/18  
IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B65
输送;包装;贮存;搬运薄的或细丝状材料
B65H
搬运薄的或细丝状材料,如薄板、条材、缆索
B65H16/00
展开、放松条材
B65H16/02
支承条材辊
法律状态
2022-05-03 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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