一种高日晒牢度的分散染料制备用的研磨装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种高日晒牢度的分散染料制备用的研磨装置，包括箱体、设于箱体内的研磨组件、用于驱动研磨组件运行的驱动组件、设于研磨组件上的辅助组件、设于箱体上的进料口、设于箱体上的电动导轨、可移动设于电动导轨上且用于进料口处密封的电动门，本实用新型能让染料高效的进行研磨，颗粒均匀，一致性好，并在研磨染料的过程中，使染料颗粒轻松落料，不易堆积，避免染料浪费。
基本信息
专利标题 ：
一种高日晒牢度的分散染料制备用的研磨装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202122276526.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-09-17
授权号 ：
CN216678325U
授权日 ：
2022-06-07
发明人 ：
张文潭刘俊彦邱丹品张碧丹周新祥赵建业陈明
申请人 ：
浙江正裕化学工业有限公司
申请人地址 ：
浙江省绍兴市杭州湾上虞经济技术开发区
代理机构 ：
绍兴上虞诚知创专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
刘鸿西
优先权 ：
CN202122276526.0
主分类号 ：
B02C1/00
IPC分类号 ：
B02C1/00 B02C23/00
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B02
破碎、磨粉或粉碎；谷物碾磨的预处理
B02C
一般破碎、研磨或粉碎；碾磨谷物
B02C1/00
用往复元件破碎或粉碎
法律状态
2022-06-07 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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