一种基坑排水结构
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摘要

本实用新型公开一种基坑排水结构,包括开设在土体内的基坑,所述基坑的底部四周设有排水沟和集水槽,所述集水槽的底部设有自吸潜水泵,所述自吸潜水泵与所述土体上方的抽排装置连接并进行排水;所述集水槽和所述排水沟的内侧壁均设置为墙体结构,所述集水槽和所述排水沟的外周均设置有排水垫层,所述排水垫层沿所述基坑的侧壁延伸铺设至所述土体的上表面;所述基坑的侧壁均铺设有支护板,所述支护板的内侧分别设有若干排水插管,所述排水插管穿过所述排水垫层伸入到所述土体中;本基坑排水结构设置合理,排水效果好,既能够将基坑中的明水快速抽排出去,也能够将土体内渗入的水排出,确保基坑土体的稳定性,不易出现垮塌现象,基坑安全性高。

基本信息
专利标题 :
一种基坑排水结构
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202122316168.1
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2021-09-24
授权号 :
CN216586625U
授权日 :
2022-05-24
发明人 :
吴西臣范士凯
申请人 :
武汉华太岩土工程有限公司
申请人地址 :
湖北省武汉市武昌区南湖花园城机场二路新大地家园西区4栋1-2层8号
代理机构 :
南京纵横知识产权代理有限公司
代理人 :
胡涂
优先权 :
CN202122316168.1
主分类号 :
E02D19/06
IPC分类号 :
E02D19/06  E02D19/08  E02D17/04  E02D19/10  E02D5/74  
IPC结构图谱
E
E部——固定建筑物
E02
水利工程;基础;疏浚
E02D
基础;挖方;填方;地下或水下结构物
E02D19/00
保持地下基础地段或其他面积的干燥
E02D19/06
地下水的节制
法律状态
2022-05-24 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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