一种晶圆机械往复式清洗装置
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摘要

本实用新型涉及圆工艺制造领域,特别涉及一种晶圆机械往复式清洗装置。其包括支撑机构、角度调节机构、往复调节模组、用于对晶圆进行清洗的清洗头,支撑机构包括纵向支撑杆、横向支撑杆,纵向支撑杆一端固定连接、其另一端连接横向支撑杆,角度调节机构连接在横向支撑杆上,角度调节机构包括调节固定板,往复调节模组连接在调节固定板上,往复调节模组的末端连接清洗头,往复调节模组带动清洗头在对晶圆清洗过程中进行往复运动。本装置通过往复调节模组的机械往复运动,带动清洗头来回动作增加势能,能更好的清洗晶圆保证清洗的洁净度。并且可以根据晶圆所在的位置任意调节清洗头与晶圆之间的角度位置,达到最佳的清洗效果。

基本信息
专利标题 :
一种晶圆机械往复式清洗装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202122389968.6
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2021-09-29
授权号 :
CN216460400U
授权日 :
2022-05-10
发明人 :
黄海荣谢柏弘何若飞
申请人 :
深圳远荣半导体设备有限公司
申请人地址 :
广东省深圳市宝安区松岗街道潭头社区潭头第二工业城A区27栋102
代理机构 :
深圳市添源知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
周椿
优先权 :
CN202122389968.6
主分类号 :
B08B3/02
IPC分类号 :
B08B3/02  B08B11/00  B08B13/00  H01L21/67  
IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B08
清洁
B08B
一般清洁;一般污垢的防除
B08B3/00
使用液体或蒸气的清洁方法
B08B3/02
用喷射力来清洁
法律状态
2022-05-10 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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