平面密封结构
授权
摘要
本实用新型涉及一种平面密封结构，包括：第一密封构件、第二密封构件和设于第一密封构件与第二密封构件之间的用于实现两者密封配合的条状密封条；其中在第一密封构件与第二密封件适配的密封面上设有用于容纳条状密封条的密封凹槽；条状密封条的两端适于叠合搭接来使该条状密封条围合成环状结构后嵌设在密封凹槽中；以及在密封凹槽中设有用于容纳条状密封条围合形成的搭接部的加宽槽；加宽槽的槽宽度大于密封凹槽的槽宽度；加宽槽的长度方向的两个槽壁面上分别设有多个第一凸起。本实用新型可以优化平面密封结构的密封效果。
基本信息
专利标题 ：
平面密封结构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202122453688.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-10-12
授权号 ：
CN216519563U
授权日 ：
2022-05-13
发明人 ：
曹扬寇铁山赵亮
申请人 ：
新誉轨道交通科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省常州市武进高新技术产业开发区凤林南路199号
代理机构 ：
常州市科谊专利代理事务所
代理人 ：
言倩玉
优先权 ：
CN202122453688.7
主分类号 ：
F16J15/06
IPC分类号 ：
F16J15/06
IPC结构图谱
F
F部——机械工程；照明；加热；武器；爆破
F16
工程元件或部件；为产生和保持机器或设备的有效运行的一般措施；一般绝热
F16J
活塞；缸；一般压力容器；密封
F16J
活塞；缸；一般压力容器；密封
F16J15/00
密封
F16J15/02
在相对固定的面之间
F16J15/06
带有压紧在密封面之间的固体填料
法律状态
2022-05-13 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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