一种用于多光轴辐射成像的电磁屏蔽装置
授权
摘要
本实用新型涉及电磁屏蔽腔体，为解决采用脉冲辐射成像技术测量射线源区的二维空间强度分布图像时，现有的结构设计受限于单台高速相机读出速度限制，难以获取同一脉冲射线源不同时间段图像的技术问题，提供一种用于多光轴辐射成像的电磁屏蔽装置，包括光学腔体和双层电磁屏蔽腔体；光学腔体内安装有闪烁体支架和反射镜支架，闪烁体支架的安装面和反射镜支架的安装面之间呈45°夹角；光学腔体上开设有出光口，出光口所处平面与反射镜支架的安装面之间呈45°夹角；双层电磁屏蔽腔体上开设有入光口和电缆孔，入光口与出光口相对设置；双层电磁屏蔽腔体内安装有三个相机调节装置和三个镜头支架。
基本信息
专利标题 ：
一种用于多光轴辐射成像的电磁屏蔽装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202122477810.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-10-14
授权号 ：
CN216437877U
授权日 ：
2022-05-03
发明人 ：
姚志明宋顾周宋岩韩长材马继明段宝军严维鹏盛亮李阳
申请人 ：
西北核技术研究所
申请人地址 ：
陕西省西安市灞桥区平峪路28号
代理机构 ：
西安智邦专利商标代理有限公司
代理人 ：
赵逸宸
优先权 ：
CN202122477810.4
主分类号 ：
H05K9/00
IPC分类号 ：
H05K9/00
法律状态
2022-05-03 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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