真空镀膜设备保护开关及其真空室门
授权
摘要
本实用新型公开了真空镀膜设备保护开关，包括门体，门体的一侧外壁上焊接有凸块，凸块的内部开设有传动腔，且传动腔底部内壁的轴心处通过轴承活动连接有主转盘，传动腔靠近主转盘底部内壁中心处的两端均通过轴承活动连接有从转盘。本实用新型顶持块在限位板和弹簧的作用下推动贴合板与真空腔室贴合，提升了密封胶垫与真空腔室壁贴合的紧凑性，使得真空镀膜设备的密封性得到了极大的提升，转柱带动主转盘转动，主转盘在连板的作用下带动从转盘转动，此时，连接臂带动定位柱沿通孔进行滑动插入真空腔室内壁的定位孔内，使得门体与真空腔室贴合后连接更加紧凑稳定。
基本信息
专利标题 ：
真空镀膜设备保护开关及其真空室门
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202122488531.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-10-15
授权号 ：
CN216614835U
授权日 ：
2022-05-27
发明人 ：
杨海成
申请人 ：
东莞耀捷镀膜科技有限公司
申请人地址 ：
广东省东莞市长安镇乌沙社区第六工业区海滨路7号4楼
代理机构 ：
深圳市兴科达知识产权代理有限公司
代理人 ：
卢传贤
优先权 ：
CN202122488531.8
主分类号 ：
C23C14/56
IPC分类号 ：
C23C14/56 C23C14/30
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/56
连续镀覆的专用设备；维持真空的装置，例如真空锁定器
法律状态
2022-05-27 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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