一种光学膜片生产用烘干装置
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摘要

本实用新型涉及一种光学膜片生产用烘干装置,应用在光学膜片烘干技术领域,解决了现有的烘干装置设计不合理,造成烘干效果不理想,因此当输送光学膜时,易磨损光学膜涂布侧面,影响光学膜的生产质量的问题,包括箱体,箱体的顶端外侧设置有烘干机,箱体的顶端内壁上设置有若干个第一烘干嘴,箱体内部沿其长度方向的右侧壁上设置有若干个第二烘干嘴,若干个第二烘干嘴沿着所述箱体的高度均匀分布,第一烘干嘴和所述第二烘干嘴的进风口分别通过导风管道与烘干机的出风口相连通,第一烘干嘴和第二烘干嘴均倾斜设置,第一烘干嘴和第二烘干嘴的出风端均朝向光学膜片移动方向的反向方向;具有提高烘干效率,且烘干质量较高的效果。

基本信息
专利标题 :
一种光学膜片生产用烘干装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202122504088.9
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2021-10-18
授权号 :
CN216261775U
授权日 :
2022-04-12
发明人 :
翁其樟吴思聪
申请人 :
江苏帝摩斯光电科技有限公司
申请人地址 :
江苏省苏州市吴江区经济技术开发区庞金路688号
代理机构 :
苏州根号专利代理事务所(普通合伙)
代理人 :
朱华庆
优先权 :
CN202122504088.9
主分类号 :
B05D3/04
IPC分类号 :
B05D3/04  
IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B05
一般喷射或雾化;对表面涂覆流体的一般方法
B05D
对表面涂布流体的一般工艺
B05D3/00
涂布液体或其他流体的表面的预处理;已有涂层的后处理,例如要用液体或其他流体作后续涂布的已有的涂层的中间处理
B05D3/04
暴露在气体中
法律状态
2022-04-12 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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