一种X射线荧光光谱分析玻璃熔片的冷却装置
授权
摘要
一种X射线荧光光谱分析玻璃熔片的冷却装置，涉及冷却装置领域。该X射线荧光光谱分析玻璃熔片的冷却装置包括顶面设有容纳槽的底座及一侧与底座侧部铰接的盖板，容纳槽内设有散热板，盖板转动时开闭容纳槽，盖板靠近容纳槽的一侧表面设有至少一个散热风扇，容纳槽内设有温度传感器，底座的一端外壁设有用于显示温度传感器检测温度的显示屏。本实施例提供的X射线荧光光谱分析玻璃熔片的冷却装置能够快速冷却玻璃熔片，并避免玻璃熔片受到外部污染。
基本信息
专利标题 ：
一种X射线荧光光谱分析玻璃熔片的冷却装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202122577522.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-10-25
授权号 ：
CN216285005U
授权日 ：
2022-04-12
发明人 ：
许超陈宁娜
申请人 ：
中冶武汉冶金建筑研究院有限公司;中国一冶集团有限公司
申请人地址 ：
湖北省武汉市38街坊八大家花园44号楼5-9层
代理机构 ：
湖北武汉永嘉专利代理有限公司
代理人 ：
陶洪
优先权 ：
CN202122577522.6
主分类号 ：
G01N23/223
IPC分类号 ：
G01N23/223
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N23/00
利用波或粒子辐射来测试或分析材料，例如未包括在G01N3/00-G01N17/00、G01N 21/00 或G01N 22/00中的X射线或中子
G01N23/22
通过测量材料的二次发射
G01N23/223
通过用X射线或γ射线辐照样品以及测量X射线荧光
法律状态
2022-04-12 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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