一种真空槽炉底砖砌筑结构
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摘要
一种真空槽炉底砖砌筑结构，包括：炉底、环流管、捣打料和炉底强化砖，所述的炉底为槽底砖砌筑的圆形结构，炉底外围与槽体内壁相交处设有捣打料，所述的捣打料整体为环形，炉底圆心两侧对称设有环流管，环流管由环砖砌筑而成，环流管靠近槽体内壁与捣打料相交处设有炉底加强砖，所述的炉底加强砖与环流管砌筑连接，在环流管远离槽体内壁方向设有弧形捣打料，所述的弧形捣打料与环流管外圆接触配合。本实用新型的有益效果是：炉底加强砖代替槽底环流管三角区处捣打料，固定环砖，防止环砖移位，提高抗冲刷能力，有效连接环砖、捣打料和槽底砖，方便砌筑定位，保证了使用寿命。
基本信息
专利标题 ：
一种真空槽炉底砖砌筑结构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202122588050.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-10-27
授权号 ：
CN216473318U
授权日 ：
2022-05-10
发明人 ：
焦智宇崔庆阳刘雷高耸赵保群谢振京张春杰吴林林韩用宏
申请人 ：
洛阳利尔功能材料有限公司
申请人地址 ：
河南省洛阳市伊川县白沙镇产业集聚区
代理机构 ：
洛阳润诚慧创知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
智宏亮
优先权 ：
CN202122588050.4
主分类号 ：
C21C7/10
IPC分类号 ：
C21C7/10
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C21
铁的冶金
C21C
生铁的加工处理，例如精炼、熟铁或钢的冶炼；熔融态下铁类合金的处理
C21C7/00
熔融铁类合金的处理，例如不包括在C21C 1/00-C21C 5/00组的钢
C21C7/10
真空处理
法律状态
2022-05-10 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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