本实用新型公开了一种吸附床气流均衡装置，包括吸附床和均流栅，所述均流栅埋置于所述吸附床内部的吸附剂中，并且所述均流栅沿垂直于所述吸附床内部气流的方向设置；所述均流栅包括主管和若干支管，所述支管分别沿垂直于主管轴向的方向依次排列，并且所述支管的中部均与主管固定连通，所述支管表面透气；所述主管的中心轴线与支管的中心轴线在同一平面上，所述主管和支管的两端均向外延伸至吸附床的内壁；本实用新型结构简单，能够使气流穿过均流栅所处平面时，通过均流栅将该平面各个期望等压的区域相互连通，重新建立气流均压区，使气流不受此前不均衡累积影响，解决了气流不均衡的问题，同时本实用新型便于吸附剂的装填，节省空间，成本更低。