紫外线杀菌装置
授权
摘要
本实用新型涉及紫外线杀菌装置。本实用新型的紫外线杀菌装置具有：用于射出紫外线的多个光源；以及一个或两个以上的漫射部件，配置于多个光源的上部，且用于使从多个光源射出的紫外线漫射。作为杀菌对象的虚拟平面上的紫外线的照度在1mW/cm2～3mW/cm2的范围内，该虚拟平面在相对于漫射部件与所述多个光源相反的一侧，与所述多个光源的发光面间隔开地配置，所述漫射部件使从所述光源射出的光中的、包括沿光轴的光在内的光轴附近的光最多地漫射。
基本信息
专利标题 ：
紫外线杀菌装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202122609639.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-10-28
授权号 ：
CN216394804U
授权日 ：
2022-04-29
发明人 ：
森冈心平
申请人 ：
恩普乐股份有限公司
申请人地址 ：
日本埼玉县
代理机构 ：
北京鸿元知识产权代理有限公司
代理人 ：
温剑
优先权 ：
CN202122609639.8
主分类号 ：
A61L2/10
IPC分类号 ：
A61L2/10
IPC结构图谱
A
A部——人类生活必需
A61
医学或兽医学；卫生学
A61L
材料或消毒的一般方法或装置；空气的灭菌、消毒或除臭；绷带、敷料、吸收垫或外科用品的化学方面；绷带、敷料、吸收垫或外科用品的材料
A61L2/00
食品或接触透镜以外的材料或物体的灭菌或消毒的方法或装置；其附件
A61L2/02
应用物理现象
A61L2/08
辐照
A61L2/10
紫外线辐照
法律状态
2022-04-29 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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