石英砂灌装装置
授权
摘要
本申请涉及一种石英砂灌装装置，包括限位机构以及设置在所述限位机构内的封堵机构，所述限位机构的下端和所述封堵机构的下端均插入单晶炉的保护套与电极柱之间的间隙中，并且所述封堵机构覆盖所述单晶炉的电极柱的中心孔，所述限位机构和封堵机构之间形成石英砂通过且到达所述单晶炉的保护套和电极柱之间的间隙的灌装通道。本申请具有以下效果：先将限位机构插入单晶炉的保护套和电极柱之间的间隙中，再灌装通道灌装石英砂时，石英砂不易随意洒落，减少了石英砂的损耗，并避免了二次清理带来的不便，同时还提高了石英砂的灌装效率。
基本信息
专利标题 ：
石英砂灌装装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202122611998.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-10-28
授权号 ：
CN216274459U
授权日 ：
2022-04-12
发明人 ：
王怡然王慧李庭
申请人 ：
包头晶澳太阳能科技有限公司
申请人地址 ：
内蒙古自治区包头市青山区装备园区新规划区装备大道21号
代理机构 ：
北京市万慧达律师事务所
代理人 ：
史雅琪
优先权 ：
CN202122611998.7
主分类号 ：
C30B15/00
IPC分类号 ：
C30B15/00 C30B29/06 B65G65/00 B65G69/04
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C30
晶体生长
C30B
单晶生长；共晶材料的定向凝固或共析材料的定向分层；材料的区熔精炼；具有一定结构的均匀多晶材料的制备；单晶或具有一定结构的均匀多晶材料；单晶或具有一定结构的均匀多晶材料之后处理；其所用的装置
C30B15/00
熔融液提拉法的单晶生长，例如Czochralski法
法律状态
2022-04-12 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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