本实用新型公开了一种二相流抛光设备，包括支撑架、抛光盆组件、纵向升降机构、横向移动机构及磁吸盘旋转机构，所述磁吸盘旋转机构包括电机及磁吸盘，所述磁吸盘通过限位件连接在所述电机上，所述纵向升降机构包括若干动力元件、底板以及电机固定座，所述电机通过所述限位件连接在所述电机固定座上，所述磁吸盘旋转机构可通过纵向升降机构实现上升及下降，所述横向移动机构可带动所述纵向升降机构及所述磁吸盘旋转机构横向移动。抛光盆内加入抛光针和抛光液，将受抛光物体置于可调节大小的容纳仓内，在磁吸盘旋转机构作用下，抛光针随磁场变化在受打磨物体表面不规则运动，从而实现对物体的高效率抛光。