高压清洗装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种高压清洗装置，包括：加热桶，加热桶具有适于盛放超纯水的加热空间，加热空间具有进水口和出水口，进水口与超纯水的供应源连通，出水口与高压清洗机台连通；加热单元，加热单元设在加热空间内以加热超纯水；控制单元，控制单元与加热单元相连，控制单元用于控制加热单元以将加热空间内的超纯水加热到38℃‑40℃之间。根据本实用新型的高压清洗装置，可以稳定金属上盘、金属下盘、上盘抛光垫和下盘抛光垫的温度，保证金属上盘和金属下盘的形状，改善硅片的平坦度，同时，可更好地清除抛光垫表面的氧化层和抛光液残留物，保证制程工艺和产品质量，并且还有利于延长抛光垫和用于清洗抛光垫的毛刷的使用寿命。
基本信息
专利标题 ：
高压清洗装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202122695498.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-11-05
授权号 ：
CN216657589U
授权日 ：
2022-06-03
发明人 ：
陈开鹰
申请人 ：
徐州鑫晶半导体科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省徐州市金山桥开发区鑫芯路1号
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202122695498.6
主分类号 ：
B24B53/00
IPC分类号 ：
B24B53/00 F24H1/20 F24H9/1809 F24H9/20 F24H15/355
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B24
磨削；抛光
B24B
用于磨削或抛光的机床、装置或工艺（用电蚀入B23H；磨料或有关喷射入B24C；电解浸蚀或电解抛光入C25F3/00；磨具磨损表面的修理或调节；磨削，抛光剂或研磨剂的进给
B24B53/00
用于修整或调节研磨表面的装置或工具、
法律状态
2022-06-03 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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