一种镭射热烫印箔
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摘要

本实用新型公开了一种镭射热烫印箔,包括烫印箔主体,所述烫印箔主体安装在收卷安装机构的上,所述烫印箔主体包括聚丙烯膜、镭射层和反光层,所述镭射层涂覆在聚丙烯膜的内表面,所述反光层设置在镭射层的内表面,所述反光层的内侧设置有内离型层,所述聚丙烯膜的外表面设置有外剥离层,所述收卷安装机构包括安装架,所述安装架的中部通过轴承转动连接有烫印箔辊,所述烫印箔主体收卷在烫印箔辊的外表面;通过设计的外剥离层和内离型层,在使用时通过外剥离层和内离型层进行保护,从而减少灰尘吸附在聚丙烯膜、镭射层和反光层上影响烫印的现象,且配合收卷安装机构方便在使用时把外剥离层和内离型层揭下进行使用。

基本信息
专利标题 :
一种镭射热烫印箔
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202122710977.0
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2021-11-08
授权号 :
CN216659350U
授权日 :
2022-06-03
发明人 :
何宜祥
申请人 :
苏州万德福尔新材料有限公司
申请人地址 :
江苏省苏州市吴中区木渎镇康健路99号
代理机构 :
苏州途正专利代理有限公司
代理人 :
马新宇
优先权 :
CN202122710977.0
主分类号 :
B41M5/44
IPC分类号 :
B41M5/44  B41M5/42  B41M5/41  
IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B41
印刷;排版机;打字机;模印机
B41M
印刷、复制、标记或拷贝工艺;彩色印刷
B41M5/00
复制或标记方法;供其使用的单张材料
B41M5/26
热压凸印法
B41M5/40
以底层、中间层或表层为特征;渗透或吸收热、辐射的方法或涂层;与涂层或合成物相结合以适合于其他的图像配准方法;用于通过热凸印法进行复制的特殊原稿
B41M5/42
中间层或覆盖层
B41M5/44
以高分子化合物为特征的
法律状态
2022-06-03 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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