一种新型电子箔反应槽
授权
摘要

本实用新型公开了一种新型电子箔反应槽,包括箱体和反应槽本体,反应槽本体固定穿插设置在箱体顶端的中部,反应槽本体的底部设置在箱体的内部,箱体的内部和反应槽本体的内部设有搅拌组件,搅拌组件包括两个第一转动电机、两个工字型搅拌杆和反应辊,两个第一转动电机分别固定设置在箱体内壁底端的两侧,两个工字型搅拌杆分别转动设置在反应槽本体内部的两侧,本实用新型的有益效果是:通过搅拌组件中设置的第一转动电机带动工字型搅拌杆转动便于使反应液混合均匀提高混合效果,通过设置在调节组件中设置的温控开关控制半导体制冷器和加热板进行加热或制冷,便于调节温度保持适当的温度,与搅拌组件相配合提高生产效果。

基本信息
专利标题 :
一种新型电子箔反应槽
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202122744203.X
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2021-11-10
授权号 :
CN216192862U
授权日 :
2022-04-05
发明人 :
秦金芳邓勋
申请人 :
河南嘉荣电子材料有限公司
申请人地址 :
河南省商丘市永城市高庄镇河南科源电子铝箔有限公司院内8号
代理机构 :
郑州龙宇专利代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 :
彭爱平
优先权 :
CN202122744203.X
主分类号 :
C25F3/04
IPC分类号 :
C25F3/04  C25F7/00  F25D31/00  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C25
电解或电泳工艺;其所用设备
C25F
电解法除去物体上材料的方法;其所用的设备
C25F3/00
电解浸蚀或抛光
C25F3/02
浸蚀
C25F3/04
轻金属的
法律状态
2022-04-05 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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