一种真空镀膜机的箱体结构
授权
摘要

本实用新型公开了一种真空镀膜机的箱体结构,涉及真空镀膜机技术领域,包括箱炉和箱盖,箱盖可转动的密封在在箱炉上,箱炉呈圆柱体结构,箱炉内部设置用于镀膜加工的真空腔室,箱炉侧壁设置若干连通真空腔室的连接口和抽空管,箱炉的外侧壁上还对称设置连接座,连接座上连接第一转轴,沿箱炉外侧壁等距离排列设置若干锁紧件,其操作简单,同时箱炉与箱盖之间连接的更加紧密,密封效果更佳,通过设置第一观察部可以大范围的观察到箱体内部的镀膜情况,通过设置第二观察部和调节旋钮,可以调节目筒和物筒之间距离改变焦距,便于对工件的镀膜细节进行观察,提高判断的准确性。

基本信息
专利标题 :
一种真空镀膜机的箱体结构
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202122774981.3
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2021-11-13
授权号 :
CN216404529U
授权日 :
2022-04-29
发明人 :
应世强应佳根
申请人 :
南京丙辰表面技术有限公司
申请人地址 :
江苏省南京市浦口区浦口经济开发区步月路9号-130
代理机构 :
南京普睿益思知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
张丽丽
优先权 :
CN202122774981.3
主分类号 :
C23C14/52
IPC分类号 :
C23C14/52  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/52
观察镀覆工艺的装置
法律状态
2022-04-29 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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