引弧装置和离子源模组及真空镀膜机
授权
摘要
本实用新型涉及一种引弧装置和离子源模组及真空镀膜机。该引弧装置包括安装座、活动杆、引弧针与复位组件。活动杆与安装座活动连接,活动杆的外壁套设有波纹管,波纹管的一端密封连接于安装座,波纹管的另一端与活动杆密封连接,当活动杆相对安装座移动时,波纹管在活动杆的带动下伸缩运动;引弧针用于与靶材抵接以引燃靶材;复位组件用于驱动活动杆朝远离靶材的方向复位运动。通过复位组件使得引弧针在接触靶材后,避免引弧针惯性运动,以避免引弧针过度撞击靶材而造成的引弧针烧坏的风险。通过波纹管的设置,可以减少真空环境对引弧装置的影响,也可对引弧针具有一定的缓冲效果,减低引弧针烧坏的风险。
基本信息
专利标题 :
引弧装置和离子源模组及真空镀膜机
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202122785698.0
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2021-11-13
授权号 :
CN216237247U
授权日 :
2022-04-08
发明人 :
林海天李立升郑礼伟陈松杨恺
申请人 :
东莞市华升真空镀膜科技有限公司
申请人地址 :
广东省东莞市大岭山镇百花洞马山庙路2号5栋401室、501室
代理机构 :
华进联合专利商标代理有限公司
代理人 :
张捷美
优先权 :
CN202122785698.0
主分类号 :
C23C14/32
IPC分类号 :
C23C14/32
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
C23C14/32
爆炸法;蒸发及随后的气化物电离法
法律状态
2022-04-08 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载