应用于掩模版标准盒入库系统中的防呆装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种应用于掩模版标准盒入库系统中的防呆装置。包括:本体,为倒F型结构,倒F型结构的下部为卡口,卡口为C字型或匚字型,卡口的上部形成有贯穿其的第一螺孔,倒F型结构的上部形成有限位孔和第二螺孔;限位杆,其插入限位孔中,第二螺孔中螺纹连接有第二螺丝,第二螺丝与限位杆接触且用于固定限位杆;其中,限位孔的长与第二螺孔的长垂直,第二螺孔与限位孔连通,第一螺孔用于螺纹连接第一螺丝使第一螺丝将防呆装置固定在掩模版标准盒入库系统的传送路径上。本实用新型通过提供一种固定在掩模版标准盒入库系统的传送路径上的防呆装置,从而能够通过防呆装置的限位杆限制安装有智能标签的高度较高的掩模版标准盒的通过,防止高度较高的掩模版标准盒和棚户碰撞,提高了系统的安全性。
基本信息
专利标题 :
应用于掩模版标准盒入库系统中的防呆装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202122793368.6
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2021-11-15
授权号 :
CN216210468U
授权日 :
2022-04-05
发明人 :
张纯陆锡坚
申请人 :
华虹半导体(无锡)有限公司
申请人地址 :
江苏省无锡市新吴区新洲路30号
代理机构 :
上海浦一知识产权代理有限公司
代理人 :
戴广志
优先权 :
CN202122793368.6
主分类号 :
G03F1/66
IPC分类号 :
G03F1/66
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1/00
用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1/66
专门适用于掩膜,空白掩膜或薄膜的容器;其制备
法律状态
2022-04-05 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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