一种均匀进料的硅酸钠连续加压溶解装置
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摘要
本实用新型涉及无机硅生产技术领域，具体为一种均匀进料的硅酸钠连续加压溶解装置，包括L型底板和分别位于L型底板两侧的溶解罐与活动箱。该均匀进料的硅酸钠连续加压溶解装置，在使用时，人员可以通过进料口将硅酸钠注入输料管中，再由螺纹送料管注入溶解罐中，待注入适合的硅酸钠后，再将活动箱复位，从而使得输料管的出料端与进料管分离，待分离完毕后，再将盖板闭合，使得密封板位于进料管中，之后再旋转旋转柱，从而将进料管紧密封住，避免发生泄露，通过连续加压结构的设置，可以为溶解罐持续性加压，通过进气柱的设置，可以将高温蒸汽注入溶解罐中，进而提高溶解罐中硅酸钠的溶解度，避免溶解不到位，从而提高该装置的实用性。
基本信息
专利标题 ：
一种均匀进料的硅酸钠连续加压溶解装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202122843779.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-11-19
授权号 ：
CN216677760U
授权日 ：
2022-06-07
发明人 ：
姚水荣
申请人 ：
桐乡市恒立化工股份有限公司
申请人地址 ：
浙江省嘉兴市桐乡市凤鸣街道工业园区
代理机构 ：
杭州融方专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
薛纪表
优先权 ：
CN202122843779.1
主分类号 ：
B01F21/10
IPC分类号 ：
B01F21/10 B01F33/71 B01F35/71 B01F35/91
法律状态
2022-06-07 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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