本实用新型公开了一种电缸主件加工中心真空定位吸盘装置，涉及加工中心技术领域，为解决现有的加工中心真空定位吸盘装置，在使用过程中，其吸附与定位结构单一，导致吸附不稳定，降低吸附效果的问题。所述吸盘箱的上端设置有工作放置台，所述工作放置台的上端设置有多位吸盘，所述多位吸盘的一端设置有激光发射器，所述吸盘箱的前端设置有PLC控制器，所述PLC控制器的两侧设置有气压感应表，所述吸盘箱的两侧设置有自控排气阀，所述吸盘箱的底部设置有主控端，所述主控端的内部设置有电机，所述电机的上方设置有气泵，所述吸盘箱的内部设置有气体箱，所述气体箱的外侧设置有隔温层，所述主控端的外侧设置有十个连接支架。