一种具有定位安装结构的真空灭弧室
授权
摘要

本实用新型公开了一种具有定位安装结构的真空灭弧室,包括防护壳,所述防护壳的两侧内壁均贯穿开设一个滑槽,两个所述滑槽的上下两端内壁均固定连接有一根固定杆两根所述固定杆的外壁均滑动连接有一个滑动圈,两根所述固定杆的外壁均套设有一个弹簧,将灭弧室本体移动至两个弧形夹板之间并向下移动,灭弧室本体向两侧挤压弧形夹板与连接杆,连接杆带动第一固定块在滑槽内带动滑动圈向下移动,此时弧形夹板呈竖直状设置,将灭弧室本体移动至孔洞外,弹簧在滑槽内带动滑动圈与连接杆向上移动,两个弧形夹板向内侧移动并将灭弧室本体夹持固定,对灭弧室本体限位且安装完成后也可进行夹持固定,加快安装效率。

基本信息
专利标题 :
一种具有定位安装结构的真空灭弧室
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202122871141.9
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2021-11-23
授权号 :
CN216435783U
授权日 :
2022-05-03
发明人 :
陈金枢蒋志浩
申请人 :
浙江瑞光真空电气有限公司
申请人地址 :
浙江省衢州市衢江区百灵北路以东
代理机构 :
杭州君度专利代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 :
朱亚冠
优先权 :
CN202122871141.9
主分类号 :
H01H33/664
IPC分类号 :
H01H33/664  
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01H
电开关;继电器;选择器;紧急保护装置
H01H33/00
带有灭弧或防弧装置的高压或大电流开关
H01H33/60
不包括单独为产生或增强灭弧流体流动装置的开关灭弧或防弧装置的开关
H01H33/66
真空开关
H01H33/664
触点;灭弧装置,例如灭弧环
法律状态
2022-05-03 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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