用于消除散射辐射影响的滤线栅装置
授权
摘要

本实用新型公开了数字图像处理技术领域的用于消除散射辐射影响的滤线栅装置,包括底座,所述底座顶部壁均匀安装有安装箱,所述安装箱内腔安装有电机,且电机顶部输出轴安装有转杆,且转杆顶端延伸至安装箱的外侧并与滤线栅板连接,所述底座前侧壁安装有控制器,其中,所述控制器包括检测器,且检测器电性输出连接中央处理器,且中央处理器电性输出连接控制模块,且控制模块电性输出连接电机,装置中通过检测器检测摄影位置与滤线栅板之间的间距,在摄影位置出现变化时,使控制器工作,使电机驱动转杆转动,用于改变滤线栅板的倾斜角度,距离越大,倾斜角度越大,避免因摄影位置的变化而导致原射线被吸收,保证成像的清晰度。

基本信息
专利标题 :
用于消除散射辐射影响的滤线栅装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202122880128.X
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2021-11-23
授权号 :
CN216353400U
授权日 :
2022-04-19
发明人 :
唐炉生王志强曾足云王力
申请人 :
湘南学院
申请人地址 :
湖南省郴州市城东王仙岭北麓
代理机构 :
长沙智德知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
卢钟廷
优先权 :
CN202122880128.X
主分类号 :
G21K1/10
IPC分类号 :
G21K1/10  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G21
核物理;核工程
G21K
未列入其他类目的粒子或电离辐射的处理技术;照射装置;γ射线或X射线显微镜
G21K1/00
粒子或电离辐射的处理装置,如聚焦或慢化
G21K1/10
散射器件;吸收器件
法律状态
2022-04-19 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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