尾排结构和具有其的LPCVD设备
授权
摘要
本实用新型公开了尾排结构和具有其的LPCVD设备，尾排结构包括第一管路组件，第二管路，真空泵组件和第三管路。根据本实用新型的尾排结构，可以作为其他管路损坏后的备选通路；可以在不需要精准控制气压时使用，以减少控制调节阀的使用，增加控制调节阀的使用寿命；可以更加安全、有效地处理设备异常时的气体排放问题，将炉管中的废气等气体输送到尾气处理装置中。
基本信息
专利标题 ：
尾排结构和具有其的LPCVD设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202122924307.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-11-25
授权号 ：
CN216556501U
授权日 ：
2022-05-17
发明人 ：
张勇李锐罗伟斌李美诗
申请人 ：
深圳市捷佳伟创新能源装备股份有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市坪山区龙田街道竹坑社区金牛东路62号一层至六层
代理机构 ：
广州嘉权专利商标事务所有限公司
代理人 ：
王本晋
优先权 ：
CN202122924307.9
主分类号 ：
F17D1/02
IPC分类号 ：
F17D1/02 F17D1/065 F17D3/01 C23C16/44
IPC结构图谱
F
F部——机械工程；照明；加热；武器；爆破
F17
气体或液体的贮存或分配
F17D
管道系统；管路
F17D
管道系统；管路
F17D1/00
管道系统
F17D1/02
用于气体或蒸气的
法律状态
2022-05-17 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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