一种镜片镀膜固定支架
授权
摘要
本实用新型涉及镜片镀膜技术领域，具体揭示了一种镜片镀膜固定支架，包括底座，底座内部的中央开设有空腔，空腔内壁底部右侧的中央安装有电机，电机输出轴顶部固定连接有一号齿轮，空腔内壁顶部和底部的中央之间转动连接有支撑杆，支撑杆顶部固定连接有支撑座，支撑座顶部的中央安装有真空发生器，真空发生器顶部固定连接有连接架，连接架内部的中央开设有通槽，连接架顶部靠近边缘的位置以连接架的中心为原点环形等距离固定连接有放置盒，电动推杆输出轴顶部穿过放置盒内壁底部且安装有精密电子秤，本实用新型有效的提高了镜片的单次镀膜数量，能提高工作效率，使得镜片镀膜的效果更好。
基本信息
专利标题 ：
一种镜片镀膜固定支架
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202122930613.3
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-11-26
授权号 ：
CN216404525U
授权日 ：
2022-04-29
发明人 ：
方群爱章云飞余林松
申请人 ：
上饶市齐安光学有限公司
申请人地址 ：
江西省上饶市鄱阳县田畈街镇湾里村
代理机构 ：
南昌大牛知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
郑剑文
优先权 ：
CN202122930613.3
主分类号 ：
C23C14/50
IPC分类号 ：
C23C14/50 C23C14/54
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/50
基座
法律状态
2022-04-29 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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