一种天然气罩式退火炉
授权
摘要
本实用新型公开了一种天然气罩式退火炉，包括底座和两个缓冲机构，底座的顶部设有外罩体，底座的两侧对称固定连接有套接块，两个套接块的内腔均滑动套接有引导柱，缓冲机构包括转环，转环的顶部设有固定套筒，固定套筒的外壁设有调节机构，调节机构的顶部设有内套筒，内套筒的外壁套设有外套筒，外套筒的顶部设有环形承载台，环形承载台的底部设有缓冲弹簧。本实用新型利用内套筒、外套筒、环形承载台和缓冲弹簧的设置，通过内套筒、外套筒、环形承载台和缓冲弹簧对垂直下落的外罩体起到缓冲的目的，并在缓冲后通过转环和调节机构使外罩体缓慢与底座接触并组装，有效避免了外罩体撞击底座的现象，提高了罩式退火炉的使用寿命。
基本信息
专利标题 ：
一种天然气罩式退火炉
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202122956807.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-11-26
授权号 ：
CN216435852U
授权日 ：
2022-05-03
发明人 ：
谢楚昭
申请人 ：
揭阳市恒胜金属材料有限公司
申请人地址 ：
广东省揭阳市揭东区试验区管委会大楼对面
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202122956807.0
主分类号 ：
H01L21/67
IPC分类号 ：
H01L21/67 C30B33/02 F27B11/00
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
法律状态
2022-05-03 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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