一种流体均流盘
授权
摘要
本实用新型公开了一种流体均流盘，所述均流盘用于输送流体的管道中；所述均流盘为无底的碗状；所述均流盘的碗壁上分布有若干个整流孔，所述整流孔的朝向与所述管道中流体的流动方向一致。本实用新型的流体均流盘可安装在管道或整流器中，能够有效降低涡旋流动的影响，减少流体不对称性，从而提高流量计的计量准确性，同时避免整流时压降过大的问题。
基本信息
专利标题 ：
一种流体均流盘
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202122988552.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-12-01
授权号 ：
CN216621307U
授权日 ：
2022-05-27
发明人 ：
阚星辉王云龙
申请人 ：
无锡咔噻啨科技发展有限公司
申请人地址 ：
江苏省无锡市无锡软件园三期鲸鱼座C301室
代理机构 ：
北京科石知识产权代理有限公司
代理人 ：
徐红岗
优先权 ：
CN202122988552.6
主分类号 ：
G01F15/00
IPC分类号 ：
G01F15/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01F
容积、流量、质量流量或液位的测量；按容积进行测量
G01F15/00
用于组G01F1/00至G01F13/00范围的零部件或仪器的，但不专用于其中特定类型仪器的零件或附件
法律状态
2022-05-27 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
