磁吸底座及自立磁悬浮装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种磁吸底座及自立磁悬浮装置，磁吸底座包括支撑盖，以及设于支撑盖排斥区域下方的第一磁体和吸引区域下方的第二磁体，所述支撑盖和第一磁体之间设有至少一个磁吸片，所述磁吸片为强磁材料制成。本实用新型提供的磁吸底座，保证磁力强度的同时，成本较低，体积较小，且可以实现不同磁吸自立杆的直立，以及磁吸自立杆倾斜方向的调整。
基本信息
专利标题 ：
磁吸底座及自立磁悬浮装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202122992218.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-12-01
授权号 ：
CN216490267U
授权日 ：
2022-05-10
发明人 ：
佘年正
申请人 ：
深圳市年磁科技有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市龙岗区南湾街道南岭村社区南新街29号1983创意小镇A1栋A213
代理机构 ：
深圳茂达智联知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
张凡
优先权 ：
CN202122992218.8
主分类号 ：
H02N15/00
IPC分类号 ：
H02N15/00 B43M99/00
法律状态
2022-05-10 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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