用于基坑施工作业的防尘遮阳幕
授权
摘要
用于基坑施工作业的防尘遮阳幕，以使防尘遮阳幕可快速开合，不影响动态作业，减少重复劳动，有效减少环境污染，极大改善工作环境。包括支架、主索、副索和密目网片，两根主索平行设置，主索张紧悬挂在支架上，支架固定安装在基坑周边挡墙上；若干根副索沿主索延伸方向间隔设置，副索两端通过索扣、滑轮与同侧主索滑动连接；两张密目网片分别与开合端两侧的各副索连接；手动牵引绳与开合端一侧的副索连接。
基本信息
专利标题 ：
用于基坑施工作业的防尘遮阳幕
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202122993124.2
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-12-01
授权号 ：
CN216475051U
授权日 ：
2022-05-10
发明人 ：
杜书光叶至盛李宁谭黎明吕攀李棋李宗奇田心敏文多祥
申请人 ：
中电建铁路建设投资集团有限公司;中电建成都建设投资有限公司
申请人地址 ：
北京市丰台区汽车博物馆东路10号院3号楼
代理机构 ：
成都惠迪专利事务所(普通合伙)
代理人 ：
王建国
优先权 ：
CN202122993124.2
主分类号 ：
E02D17/02
IPC分类号 ：
E02D17/02 B08B17/04
IPC结构图谱
E
E部——固定建筑物
E02
水利工程；基础；疏浚
E02D
基础；挖方；填方；地下或水下结构物
E02D17/00
挖方；挖方边缘的修砌；填方
E02D17/02
基础坑
法律状态
2022-05-10 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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