一种具有泥水分离功能的化学清洗槽
授权
摘要
本实用新型公开了一种具有泥水分离功能的化学清洗槽，包括支撑板以及化学清洗槽，化学清洗槽位于支撑板上方，化学清洗槽上设有泥水分离结构；泥水分离结构包含有：一对支架、电机、旋转臂、配重块、脱水桶、安装架、滤芯、固定组件以及排水组件；一对支架底端安装在支撑板上壁面上，一对支架顶端安装在化学清洗槽下壁面上，电机安装在化学清洗槽下壁面上，旋转臂安装在电机驱动端上，旋转臂位于支撑板和化学清洗槽之间，配重块安装在旋转臂左端，本实用新型涉及化学清洗槽技术领域,解决了现有的化学清洗槽在清洗物品是，往往化学清洗槽内部含有泥水，若直接将泥水排出，将造成环境污染的问题。
基本信息
专利标题 ：
一种具有泥水分离功能的化学清洗槽
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202123019637.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-12-03
授权号 ：
CN216274386U
授权日 ：
2022-04-12
发明人 ：
严仕琛严建军
申请人 ：
武汉普森顿机械制造有限公司
申请人地址 ：
湖北省武汉市东西湖区革新大道388-1号
代理机构 ：
武汉兮悦知识产权代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
杨珍知
优先权 ：
CN202123019637.X
主分类号 ：
C23G3/00
IPC分类号 ：
C23G3/00 C23G5/04
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23G
电解法除外的化学法金属材料清洗及除油
C23G3/00
金属材料清洗或酸洗用的设备
法律状态
2022-04-12 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
