一种高水位砂层的组合桩止水帷幕结构
授权
摘要
本申请涉及一种高水位砂层的组合桩止水帷幕结构，其包括桩体，所述桩体设置有多个，所述桩体上固定设置有用于支撑所述桩体的支架，所述支架包括连接板和转角块，所述连接板与所述转角块固定连接，所述转角块与所述连接板均设置在所述桩体上，所述连接板内开设有容置槽，所述容置槽内设置有用于固定所述连接板与所述桩体的锁紧组件。利用连接板将若干桩体进行连接，提升止水帷幕整体结构的连接强度，同时利用锁紧组件固定连接板与桩体，增加了连接稳定性，从而提升止水帷幕整体结构的稳定性。
基本信息
专利标题 ：
一种高水位砂层的组合桩止水帷幕结构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202123029330.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-12-02
授权号 ：
CN216664153U
授权日 ：
2022-06-03
发明人 ：
兰玉金黄汉成马健牟兰超
申请人 ：
一山（北京）岩土工程有限公司
申请人地址 ：
北京市通州区经海六路1号院1号楼16层1608
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202123029330.8
主分类号 ：
E02D17/04
IPC分类号 ：
E02D17/04 E02D19/18 E02D5/14
IPC结构图谱
E
E部——固定建筑物
E02
水利工程；基础；疏浚
E02D
基础；挖方；填方；地下或水下结构物
E02D17/00
挖方；挖方边缘的修砌；填方
E02D17/02
基础坑
E02D17/04
基础坑边缘的修砌或加固
法律状态
2022-06-03 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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