本实用新型公开了一种半导体废气处理设备新型涡旋气体冷却腔体，包括装置本体，所述装置本体包括底座、工作箱、进气管路和反应缸，所述底座位于装置本体底部，所述工作箱安装在底座顶部，所述工作箱顶部开设有开口，所述开口顶部安装有连接顶边，所述反应缸安装在工作箱顶部内部，所述反应缸呈漏斗状，且反应缸底部为平整状。该种装置可以全面对半导体废气内的有毒有害物质进行全面性的分解，从而把提高半导体废气的安全性，且该种装置密封性好，可以有效地防止半导体废气在处理时泄露，进一步可以对工作人员的身体进行保护，防止半导体废气损害工作人员的生体健康。