一种解干涉及抗压的增亮膜
授权
摘要

本实用新型公开了一种解干涉及抗压的增亮膜,包括基材层、棱镜层,棱镜层上阵列有棱镜,棱镜上设有解干涉区、透光区,透光区沿长度方向呈上下波动,解干涉区沿棱镜的顶角棱的长度方向阵列排布,解干涉区中最高点与最低点的高度差H为2.5um~3.5um,解干涉区内填充有微粒子。本实用新型的基材层用于涂覆棱镜层,起到支撑作用,棱镜层起到透光、增亮的作用。上下波动的透光区能够解决现有的棱镜易产生干涉的问题,填充有微粒子的解干涉区能够雾化膜面,进一步解决干涉问题。解干涉区沿棱镜的顶角棱的长度方向阵列排布,从而能够满足工业上批量制造的技术要求。

基本信息
专利标题 :
一种解干涉及抗压的增亮膜
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202123082451.9
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2021-12-09
授权号 :
CN216622915U
授权日 :
2022-05-27
发明人 :
丁利明路健季文静
申请人 :
常州华威新材料有限公司
申请人地址 :
江苏省常州市钟楼区邹区镇工业园区
代理机构 :
浙江亿维律师事务所
代理人 :
王乃苍
优先权 :
CN202123082451.9
主分类号 :
G02F1/13357
IPC分类号 :
G02F1/13357  B29C41/32  B29C59/04  B29C33/42  B29C33/38  B01L7/00  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02F
用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置,例如转换、选通、调制或解调,上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的;用于上述操作的技术或工艺;变频;非线性光学;光学逻辑元件;光学模拟/数字转换器
G02F1/00
控制来自独立光源的光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置,例如,转换、选通或调制;非线性光学
G02F1/01
对强度、相位、偏振或颜色的控制
G02F1/13
基于液晶的,例如单位液晶显示单元
G02F1/133
构造上的设备;液晶单元的工作;电路装置
G02F1/1333
构造上的设备
G02F1/1334
基于聚合物分散型液晶,例如微囊密封型液晶的
G02F1/13357
照明装置
法律状态
2022-05-27 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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