一种生产轴承用轴承圈抛光装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种生产轴承用轴承圈抛光装置,包括工作台,所述工作台的顶部固定连接有两个调节组件,所述调节组件顶部固定连接有抛光组件,两个所述抛光组件之间设置有承托板,所述承托板的底部两端与工作台的顶面固定连接,所述工作台内部设置有集料槽,所述集料槽的顶部延伸至工作台外部并固定连接有筛板,所述集料槽的底部贯穿连接有清理组件,所述清理组件的底部贯穿连接有收集组件。该种生产轴承用轴承圈抛光装置,通过调节组件的设置,可以实现对两个抛光轮之间间距的调节,便于对不同规格的轴承抛光处理,提高抛光的效率,同时通过清理组件和收集组件的设置,有效的避免了废屑堆积而影响对轴承的抛光,提高了轴承抛光的效果。
基本信息
专利标题 :
一种生产轴承用轴承圈抛光装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202123107074.X
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2021-12-10
授权号 :
CN216504276U
授权日 :
2022-05-13
发明人 :
刘慧斌
申请人 :
深圳大华轴承有限公司
申请人地址 :
广东省深圳市宝安区新安街道怡园路5175号A2栋1楼101
代理机构 :
北京盛凡佳华专利代理事务所(普通合伙)
代理人 :
王艳
优先权 :
CN202123107074.X
主分类号 :
B24B29/04
IPC分类号 :
B24B29/04 B24B27/02 B24B55/06 B24B27/00 B24B47/12
IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B24
磨削;抛光
B24B
用于磨削或抛光的机床、装置或工艺(用电蚀入B23H;磨料或有关喷射入B24C;电解浸蚀或电解抛光入C25F3/00;磨具磨损表面的修理或调节;磨削,抛光剂或研磨剂的进给
B24B29/00
有或没有使用固体或液体抛光剂并利用柔软材料或挠性材料制作的工具进行工件表面抛光的机床或装置
B24B29/02
适用于特殊工件的
B24B29/04
用于对称旋转工件,如球形,圆柱形或锥形工件
法律状态
2022-05-13 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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