一种真空蒸镀机的坩埚系统
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摘要

本申请提供一种真空蒸镀机的坩埚系统,所述坩埚系统包括电子枪结构和坩埚结构,电子枪结构设置在坩埚结构的前方,电子枪结构发出电子束轰击加热坩埚结构的坩埚内的膜料;所述电子枪结构包括支座、灯丝、高压头、一体式线圈和磁极,所述支座具有一个从上向下的凹陷部,灯丝和高压头设置在凹陷部内,高压头设置在灯丝的下方,高压头对灯丝进行高压放电,一体式线圈设置在灯丝的前方,磁极设置在支座的两侧和后方,一体式线圈由一个水平横向设置的X线圈和两个水平纵向设置的Y线圈组成,X线圈设置在前方,两个Y线圈分别与X线圈的两端连接并且位于X线圈的后方,所述一体式线圈和磁极用于使得打入坩埚内的光斑为点形或圆形。

基本信息
专利标题 :
一种真空蒸镀机的坩埚系统
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202123112846.9
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2021-12-13
授权号 :
CN216585179U
授权日 :
2022-05-24
发明人 :
薛蒙晓
申请人 :
苏州佑伦真空设备科技有限公司
申请人地址 :
江苏省苏州市苏州工业园区东旺路45号
代理机构 :
苏州彰尚知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
曹恒涛
优先权 :
CN202123112846.9
主分类号 :
C23C14/30
IPC分类号 :
C23C14/30  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
C23C14/28
波能法或粒子辐射法
C23C14/30
电子轰击法
法律状态
2022-05-24 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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