一种止水支护一体化基坑支挡结构
授权
摘要

本实用新型涉及一种止水支护一体化基坑支挡结构,用以设置在基坑和地面的交界处,且所述基坑凹设于所述地面下,包括多个直桩、多个斜桩和顶梁;多个所述直桩沿所述基坑和地面交界处的边缘环向间隔分布,多个所述直桩的下端竖向插入地面下,且所述直桩下端的水平高度低于所述基坑底壁的的水平高度,多个所述直桩上端的水平高度介于所述基坑底壁的水平高度和地面的水平高度之间,且所述地面的地下位于任意相邻两个所述直桩之间连接有竖向方向设置的止水帷幕。本实用新型将止水帷幕与直桩和斜桩一体化,降低了基坑支护成本,局部采用直桩和斜桩组合,提高了支挡结构的稳定性和支撑强度,其施工方便、快捷。

基本信息
专利标题 :
一种止水支护一体化基坑支挡结构
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202123140779.1
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2021-12-14
授权号 :
CN216640599U
授权日 :
2022-05-31
发明人 :
干飞郑刚李美霖周海祚刁钰赵瑜毕靖王超林张毅曹腾常书铭姜志恒杨军
申请人 :
贵州大学;天津大学
申请人地址 :
贵州省贵阳市花溪区贵州大学土木工程学院420办公室
代理机构 :
北京轻创知识产权代理有限公司
代理人 :
赵秀斌
优先权 :
CN202123140779.1
主分类号 :
E02D17/04
IPC分类号 :
E02D17/04  E02D19/18  E02D5/46  E02D5/04  
IPC结构图谱
E
E部——固定建筑物
E02
水利工程;基础;疏浚
E02D
基础;挖方;填方;地下或水下结构物
E02D17/00
挖方;挖方边缘的修砌;填方
E02D17/02
基础坑
E02D17/04
基础坑边缘的修砌或加固
法律状态
2022-05-31 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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