用于制备波片的平摆抛光机
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摘要

实用新型公开了用于制备波片的平摆抛光机,它涉及波片加工设备技术领域。所述立柱的底部与安装槽之间设置有用于减少抛光加工时产生的振动和冲击的减震机构;所述减震机构包括减震支撑杆,所述连接滑套的上端设置有承载板,所述连接滑套的下端铰接着铰接杆,所述铰接杆远离连接滑套的一端铰接着水平滑块,所述水平滑块靠近安装槽内侧壁的侧面固定连接有水平减震弹簧,所述减震支撑杆与安装槽内侧底部之间设有竖向减震弹簧。采用上述技术方案后,本实用新型的有本益效果为:减震机构内部设置有水平和竖向的减震弹簧,二级减震缓冲,水平和竖向同时减震缓冲,减震的效果更好,减少了抛光过程中的冲击力和振动,可以使抛光的效果更好。

基本信息
专利标题 :
用于制备波片的平摆抛光机
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202123145437.9
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2021-12-14
授权号 :
CN216681538U
授权日 :
2022-06-07
发明人 :
郑威陈永辉赖斌
申请人 :
福州永业光电科技有限公司
申请人地址 :
福建省福州市仓山区盖山镇阳岐路61号金山工业集中区福湾片区福州通洲实业有限公司3号厂房第二层西侧
代理机构 :
东莞市神州众达专利商标事务所(普通合伙)
代理人 :
刘汉民
优先权 :
CN202123145437.9
主分类号 :
B24B13/00
IPC分类号 :
B24B13/00  B24B13/005  B24B41/00  B24B47/12  F16F15/067  
IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B24
磨削;抛光
B24B
用于磨削或抛光的机床、装置或工艺(用电蚀入B23H;磨料或有关喷射入B24C;电解浸蚀或电解抛光入C25F3/00;磨具磨损表面的修理或调节;磨削,抛光剂或研磨剂的进给
B24B13/00
为磨削或抛光透镜上的光学表面和其他工件上相似形状表面设计的机床或装置及其附件
法律状态
2022-06-07 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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