一种气室结构
授权
摘要

本实用新型提供一种气室结构,包括测量块,所述测量块的底部开设有气体取样口,所述气体取样口包括第一取样口、第二取样口、第三取样口和排气口;所述第一取样口和第二取样口均通至测量块的左侧表面,所述测量块的左侧表面对应第一取样口和第二取样口的贯通位置均开设有压差参数测量室;所述第一取样口与压差参数测量室的贯通通路上连通有压力参数测量室;所述第三取样口自下而上通至测量块的顶部。本实用新型结构中,气室采用一体式结构,将环境气样引入至密封测量室,气体传感器装入密封测量室之后,可以快速准确测量气体浓度及压力温湿度等参数,并且测量室内更换不同的气体传感器可测量不同的气体浓度和气体参数,使用方便。

基本信息
专利标题 :
一种气室结构
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202123169466.9
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2021-12-16
授权号 :
CN216594393U
授权日 :
2022-05-24
发明人 :
任茂林
申请人 :
重庆蓝格科技开发有限公司
申请人地址 :
重庆市九龙坡区九龙园区云湖路3号1-225#
代理机构 :
上海宏京知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
胡旭孟
优先权 :
CN202123169466.9
主分类号 :
G01N1/24
IPC分类号 :
G01N1/24  G01N33/00  G01L11/00  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N1/00
取样;制备测试用的样品
G01N1/02
取样装置
G01N1/22
气体的
G01N1/24
抽吸装置
法律状态
2022-05-24 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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