盖带粉末吸附清理装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种盖带粉末吸附清理装置，涉及半导体测试编带技术领域，它包括支架、设置在支架上的清理刷，清理刷接触有盖带，支架上开设有相互连通的连接孔和吸附孔，连接孔连通吸附器，吸附孔靠近清理刷设置。盖带在行进过程中经过清理刷，由清理刷将表面的粉末刷落，吸附器开启，产生负压，使得掉落在清理刷附近的粉末能够依次经过吸附孔、连接孔后被吸入吸附器中。盖带表面的粉末被清理后，防止粉末通过盖带接触到限位板和封刀，减少因粉末造成的封合不良的情况。
基本信息
专利标题 ：
盖带粉末吸附清理装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202123197085.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-12-17
授权号 ：
CN216460338U
授权日 ：
2022-05-10
发明人 ：
黄加国刘东
申请人 ：
四川蕊源集成电路科技有限公司
申请人地址 ：
四川省成都市郫都区成都现代工业港南片区德源镇菁德路36号1号楼1层
代理机构 ：
成都九鼎天元知识产权代理有限公司
代理人 ：
马腾飞
优先权 ：
CN202123197085.1
主分类号 ：
B08B1/02
IPC分类号 ：
B08B1/02 B08B5/04
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B08
清洁
B08B
一般清洁；一般污垢的防除
B08B1/00
利用工具，刷子或类似工具的清洁方法
B08B1/02
运动中工件的清洁，如在传送装置上的成卷织物或物品
法律状态
2022-05-10 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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