卧式成像机构
授权
摘要

本申请涉及成像技术领域,提供一种卧式成像机构,包括光源、第一反光镜、成像装置和第二反光镜;第一反光镜设置在光源的光路上;第二反光镜设置在成像装置的成像光光路上。在实际应用中,通过设置第一反光镜和第二反光镜,实现对结构光,以及进入成像装置的成像光的光路改变,从而可以调整光源和成像装置的设置方式,避免光源和成像装置的高度限制,同时,通过第二反光镜的设置,可以有效的增大成像装置的成像距离,变向的增加了成像区域,当增加成像装置与被检测物体之间的成像光的距离后,可以有效的扩展成像装置的成像面积,从而在检测车辆顶部与隧道顶部距离较近时,也可以保证一定的成像距离,从而高效率的进行隧道顶部图像的获取。

基本信息
专利标题 :
卧式成像机构
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202123261465.7
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2021-12-23
授权号 :
CN216696044U
授权日 :
2022-06-07
发明人 :
李骏马骏周方明
申请人 :
苏州立创致恒电子科技有限公司
申请人地址 :
江苏省苏州市苏州工业园区金鸡湖大道1355号国际科技园A503
代理机构 :
北京弘权知识产权代理有限公司
代理人 :
逯长明
优先权 :
CN202123261465.7
主分类号 :
G01N21/01
IPC分类号 :
G01N21/01  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段,即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/01
便于进行光学测试的装置或仪器
法律状态
2022-06-07 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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