PVD设备及其辅助装置
授权
摘要
本申请涉及一种PVD设备及其辅助装置，PVD设备辅助装置包括：设置于PVD设备的进料腔室与加热腔室之间，在进料腔室的压力达到预设压力阈值时导通的协助抽空装置；设置于加热腔室，检测加热腔室内的水汽，并将检测的实时数据上传的监控装置。在PVD设备的进料腔室与加热腔室之间设置协助抽空装置，在进料腔室的压力达到预设压力阈值时导通，借助加热腔室的组合泵快速抽真空，降低循环时间，同时还利用监控装置检测加热腔室内的水汽并上传实时数据，可更加准确的评估载板寿命，避免未达寿命造成的浪费以及超出寿命造成的工艺效率影响，有效提高产能。
基本信息
专利标题 ：
PVD设备及其辅助装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202123288830.3
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-12-24
授权号 ：
CN216738513U
授权日 ：
2022-06-14
发明人 ：
徐磊魏科胜王金薛建锋余义
申请人 ：
通威太阳能（安徽）有限公司
申请人地址 ：
安徽省合肥市蜀山区高新区长宁大道与习友路交口西南角
代理机构 ：
华进联合专利商标代理有限公司
代理人 ：
潘宏洲
优先权 ：
CN202123288830.3
主分类号 ：
C23C14/44
IPC分类号 ：
C23C14/44 C23C14/54
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
C23C14/42
三极溅射
C23C14/44
施加高频及附加直流电压法
法律状态
2022-06-14 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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