一种除胶设备
授权
摘要

本实用新型提供的除胶设备包括除胶反应机构与基架,除胶反应机构布置于基架内,除胶设备包括滑动组件,滑动组件包括滑轨、滑块、连接件与弹性件,连接件包括第一横板、第二横板与竖板,弹性件的一端抵接于第二横板,弹性件的另一端抵接于除胶反应机构;沿竖直方向投影于水平方向,第一横板的面积小于第二横板的面积。当需进行反应腔维护工作时,维护人员只需轻抬除胶反应机构,即可使除胶反应机构与反应腔相互分离,并可沿滑轨移动除胶反应机构以使其移离反应腔的上方,除胶反应机构不再对维护工作造成妨碍,维护人员可进行反应腔的维护工作,因此,无需进行现有技术中的除胶反应机构拆除工序,提高使用便利性。

基本信息
专利标题 :
一种除胶设备
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202123299186.X
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2021-12-23
授权号 :
CN216670502U
授权日 :
2022-06-03
发明人 :
李志强廖文晗赵义党
申请人 :
珠海恒格微电子装备有限公司
申请人地址 :
广东省珠海市横琴新区宝华路6号105室-63474(集中办公区)
代理机构 :
广州三环专利商标代理有限公司
代理人 :
李宇亮
优先权 :
CN202123299186.X
主分类号 :
G03F7/42
IPC分类号 :
G03F7/42  G03F7/00  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/26
感光材料的处理及其设备
G03F7/42
剥离或剥离剂
法律状态
2022-06-03 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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