一种线同轴光补偿成像装置
授权
摘要
本申请提供了一种线同轴光补偿成像装置，包括：线同轴光源、补偿光源、镜头、相机和载物平台；其中，所述相机、所述镜头、所述线同轴光源和所述载物平台依次设置，所述补偿光源设置在所述线同轴光源和所述载物平台之间；所述线同轴光源用于在被测物体表面形成暗场，所述线同轴光源发出的光线垂直照射在所述载物平台上被测物体的表面；所述补偿光源发出的光线倾斜照射在所述载物平台上被测物体的表面。本申请在线同轴光源的基础上，通过设置补偿光源对被测物体的背景亮度进行补偿照明，使被测物体的背景能有部分光束经漫反射经过镜头进入相机成像，从而提高背景成像的灰度，有利于图像定位、检测和提取信息，进一步提高图像分析的准确性。
基本信息
专利标题 ：
一种线同轴光补偿成像装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202123301566.2
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-12-24
授权号 ：
CN216669771U
授权日 ：
2022-06-03
发明人 ：
李伟博邢志广姚毅杨艺
申请人 ：
凌云光技术股份有限公司;苏州凌云光工业智能技术有限公司;苏州凌云视界智能设备有限责任公司
申请人地址 ：
北京市海淀区翠湖南环路13号院7号楼7层701室
代理机构 ：
北京弘权知识产权代理有限公司
代理人 ：
逯长明
优先权 ：
CN202123301566.2
主分类号 ：
G01N21/88
IPC分类号 ：
G01N21/88 G01N21/01
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段，即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/84
专用于特殊应用的系统
G01N21/88
测试瑕疵、缺陷或污点的存在
法律状态
2022-06-03 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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