一种便于调控位移的打磨设备
授权
摘要
本实用新型公开了一种便于调控位移的打磨设备,包括打磨台,打磨台内设有通槽,打磨台的一侧安装有打磨调节机构,打磨台在打磨调节机构的一侧安装有第一夹紧机构,打磨台的另一侧设有导向槽,打磨台在导向槽的上侧设有滑动槽,导向槽内安装有调节机构,调节机构连接有第二夹紧机构,第二夹紧机构滑动安装在滑动槽内。本实用新型通过对电动推杆的控制,使电动推杆能够带动打磨辊在工件表面进行来回的打磨抛光,使得打磨更加全面,提高了整体上工作效率,打磨后符合工艺要求的表面光滑,且打磨后的厚度均匀符合各项工艺要求标准,并且通过第一夹紧机构与第二夹紧机构,能够对工件进行固定的装夹,能够有效的防止在打磨时工件出现滑移。
基本信息
专利标题 :
一种便于调控位移的打磨设备
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202123308893.0
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2021-12-27
授权号 :
CN216542597U
授权日 :
2022-05-17
发明人 :
张林山刘晶晶
申请人 :
创客天下(天津)科技发展有限公司
申请人地址 :
天津市红桥区湘潭道23号C-313
代理机构 :
北京奥肯律师事务所
代理人 :
马聪
优先权 :
CN202123308893.0
主分类号 :
B24B27/033
IPC分类号 :
B24B27/033 B24B41/06 B24B47/00 B24B47/12 B24B47/16
IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B24
磨削;抛光
B24B
用于磨削或抛光的机床、装置或工艺(用电蚀入B23H;磨料或有关喷射入B24C;电解浸蚀或电解抛光入C25F3/00;磨具磨损表面的修理或调节;磨削,抛光剂或研磨剂的进给
B24B27/00
其他磨床或装置
B24B27/033
用于清理目的的磨削表面,如清除氧化皮或磨掉表面裂纹
法律状态
2022-05-17 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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