一种具有稳定气流作用的LPCVD石英管结构
授权
摘要
本实用新型一种具有稳定气流作用的LPCVD石英管结构，包括LPCVD石英管，以及石英连接件。LPCVD石英管石英管内径150～250mm,长度2000～2500mm；LPCVD石英管进气端，在石英舟前方设置石英内套管；石英内套管通过石英连接件与LPCVD石英管内壁连接；石英连接件与LPCVD石英管内壁连成一体；LPCVD石英管与石英内套管之间设置间隙；石英内套管长度为200～500mm。本实用新型在一根LPCVD石英管内设置一段石英内套管，即局部是双层管或准双层管，减少石英舟前端的假片，节约LPCVD石英管反应腔内的空间，提高空间利用率。
基本信息
专利标题 ：
一种具有稳定气流作用的LPCVD石英管结构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202123349539.2
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-12-29
授权号 ：
CN216738522U
授权日 ：
2022-06-14
发明人 ：
薛治祥张晓仪施嘉颖龚雨桃
申请人 ：
江苏捷捷微电子股份有限公司
申请人地址 ：
江苏省南通市启东市经济开发区钱塘江路3000号
代理机构 ：
南京正联知识产权代理有限公司
代理人 ：
查鑫利
优先权 ：
CN202123349539.2
主分类号 ：
C23C16/44
IPC分类号 ：
C23C16/44 C23C16/455 H01L21/205
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
法律状态
2022-06-14 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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