一种拱圈支护系统
授权
摘要
本实用新型公开了一种拱圈支护系统，包括设置在椭圆形基坑外侧的双层止水帷幕结构和设置在所述椭圆形基坑内的拱圈支护结构；所述拱圈支护结构包括设置在所述椭圆形基坑的顶部的拱顶支护结构、竖向设置在所述拱顶支护结构的底部且布设在所述椭圆形基坑的侧壁上的拱圈侧壁支护结构、以及设置在所述椭圆形基坑的底部且布设在所述拱圈侧壁支护结构的底部的拱底支护结构。本实用新型通过在椭圆形基坑的外侧浇筑止水帷幕，对富水地区的地下水起到围挡作用，使得地下水不对拱圈结构造成影响，不对拱圈的稳固性造成扰动；通过设置所述拱顶支护结构和所述拱底支护结构，对拱圈的侧壁进行加强支护，提高了拱圈的支护效率和支护时长。
基本信息
专利标题 ：
一种拱圈支护系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202123359933.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-12-27
授权号 ：
CN216615879U
授权日 ：
2022-05-27
发明人 ：
杨万仁高永展陈明亮熊金友陈小波
申请人 ：
中铁二十局集团第五工程有限公司
申请人地址 ：
云南省昆明市官渡区关上国贸路星河明居中铁二十局五公司
代理机构 ：
西安创知专利事务所
代理人 ：
魏法祥
优先权 ：
CN202123359933.4
主分类号 ：
E02D17/04
IPC分类号 ：
E02D17/04 E02D19/18
IPC结构图谱
E
E部——固定建筑物
E02
水利工程；基础；疏浚
E02D
基础；挖方；填方；地下或水下结构物
E02D17/00
挖方；挖方边缘的修砌；填方
E02D17/02
基础坑
E02D17/04
基础坑边缘的修砌或加固
法律状态
2022-05-27 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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