平凸透镜平面上盘模
授权
摘要
本实用新型涉及透镜加工辅助设备技术领域，公开了一种平凸透镜平面上盘模，包括盘状本体，所述盘状本体具有一个厚度，盘状本体的上表面上布置复数个阶梯孔，所述阶梯孔布置在多个同心圆的环形阵列上，所述阶梯孔的上孔孔径与平凸透镜的直径相匹配，所述阶梯孔的下孔孔径小于平凸透镜的直径，所述阶梯孔的环形肩部用于配合平凸透镜的凸面。本实用新型实现对透镜的凸面进行固定，对平面进行打磨，完成透镜的加工。
基本信息
专利标题 ：
平凸透镜平面上盘模
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202123362148.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-12-29
授权号 ：
CN216608399U
授权日 ：
2022-05-27
发明人 ：
方国祥
申请人 ：
上海恒祥光学电子有限公司
申请人地址 ：
上海市松江区南乐路1276弄115号7幢301室
代理机构 ：
上海霖睿专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
黄燕石
优先权 ：
CN202123362148.4
主分类号 ：
B24B13/00
IPC分类号 ：
B24B13/00 B24B13/005
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B24
磨削；抛光
B24B
用于磨削或抛光的机床、装置或工艺（用电蚀入B23H；磨料或有关喷射入B24C；电解浸蚀或电解抛光入C25F3/00；磨具磨损表面的修理或调节；磨削，抛光剂或研磨剂的进给
B24B13/00
为磨削或抛光透镜上的光学表面和其他工件上相似形状表面设计的机床或装置及其附件
法律状态
2022-05-27 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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