一种沉井构造
授权
摘要
本申请公开了一种沉井构造，属于建筑技术领域。包括设置在基坑内的井筒和设置在基坑上的井筒限位装置，井筒的底部固定有刃脚，井筒内对称设有两个活动环，两个活动环的下方均设有多个插板，井筒的内壁开设有两组与多个插板相匹配的插口，每个插板的一端均延伸至插口内，且插板的另一端通过滑动件与活动环连接，井筒限位装置包括多个支撑件、固定环和多个限位钢丝，固定环的外壁与多个支撑件的一端固定，且多个支撑件的另一端均固定设置于基坑的顶部。本申请提高井筒插入至基坑内的稳定性，同时能够在井筒下沉过程中对井筒的位置进行限定，有效防止其突沉过指定位置。
基本信息
专利标题 ：
一种沉井构造
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202123367315.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-12-28
授权号 ：
CN216552036U
授权日 ：
2022-05-17
发明人 ：
汤银亮周斌
申请人 ：
浙江竤伟集团有限公司
申请人地址 ：
浙江省杭州市萧山区宁围街道二桥村
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202123367315.4
主分类号 ：
E02D23/00
IPC分类号 ：
E02D23/00 E02D17/02 E02D17/04
IPC结构图谱
E
E部——固定建筑物
E02
水利工程；基础；疏浚
E02D
基础；挖方；填方；地下或水下结构物
E02D23/00
沉箱；沉箱的修建或沉放
法律状态
2022-05-17 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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